[发明专利]含有机溶剂的气体处理系统有效
申请号: | 201380065297.3 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN104853829B | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 杉浦勉;川田和之;木村彰成 | 申请(专利权)人: | 东洋纺株式会社 |
主分类号: | B01D53/04 | 分类号: | B01D53/04;B01D53/06;B01D53/44;B01D53/81;C01B31/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 含有机溶剂的气体处理系统(1A)具备:流通载气的循环路径,和设置于该循环路径上的第一吸附解吸处理装置(1100)、冷凝回收装置(1200)及第二吸附解吸处理装置(1300)。第一吸附解吸处理装置(1100)包含第一吸附解吸元件(1121、1131),第二吸附解吸处理装置(1300)包含第二吸附解吸元件(1321)、和温度调节机构(1330A)。温度调节机构(1330A)在自第一吸附解吸元件(1121、1131)解吸有机溶剂的解吸处理期间的开始阶段,将自冷凝回收装置(1200)排出的载气形成高温状态并且供给到第二吸附解吸元件(1321),在上述解吸处理期间的结束阶段,将载气形成低温状态并且供给到第二吸附解吸元件(1321)。 | ||
搜索关键词: | 有机溶剂 气体 处理 系统 | ||
【主权项】:
一种含有机溶剂的气体处理系统,其通过自含有有机溶剂的原气体分离有机溶剂而将原气体净化并排出,并且使用载气回收自原气体分离出的有机溶剂,所述含有机溶剂的气体处理系统具备:以载气循环的方式流通载气的循环路径;设置于所述循环路径上、包含吸附以及解吸有机溶剂的第一吸附解吸元件的第一吸附解吸处理装置;设置于所述循环路径上、通过冷凝有机溶剂而将有机溶剂以冷凝液形式回收的冷凝回收装置;和设置于所述循环路径上、包含吸附以及解吸有机溶剂的第二吸附解吸元件的第二吸附解吸处理装置,所述第一吸附解吸处理装置还包含将自所述第二吸附解吸处理装置排出的处于高温状态或低温状态的载气温度调节至高温状态的第一温度调节部件,通过使原气体、和利用所述第一温度调节部件进行温度调节而处于高温状态的载气在时间上交替地与所述第一吸附解吸元件接触,而使有机溶剂自原气体移动到处于高温状态的载气,所述冷凝回收装置通过将自所述第一吸附解吸处理装置排出的处于高温状态的载气温度调节至低温状态而使有机溶剂冷凝,所述第二吸附解吸处理装置还包含将自所述冷凝回收装置排出的含有未冷凝的有机溶剂的处于低温状态的载气在时间上交替地温度调节至高温状态和低温状态中的任意一种的第二温度调节部件,通过使利用所述第二温度调节部件进行温度调节而处于高温状态的载气、和利用所述第二温度调节部件进行温度调节而处于低温状态的载气在时间上交替地与所述第二吸附解吸元件接触,而使有机溶剂自处于低温状态的载气移动到处于高温状态的载气,所述第二温度调节部件,在自所述第一吸附解吸元件解吸有机溶剂的解吸处理期间的开始阶段,将自所述冷凝回收装置排出的含有未冷凝的有机溶剂的处于低温状态的载气温度调节至高温状态,在自所述第一吸附解吸元件解吸有机溶剂的解吸处理期间的结束阶段,将自所述冷凝回收装置排出的含有未冷凝的有机溶剂的处于低温状态的载气温度调节至低温状态。
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