[发明专利]具有挡帘组件的离子源及离子植入机有效
| 申请号： | 201380063410.4 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN104885185B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克;威廉·T·维弗 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J27/04 | 分类号： | H01J27/04;H01J27/08;H01J37/08;H01J37/317;H01J27/02;H01J37/302 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨文娟,臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 离子植入机及具有挡帘组件的离子源。离子源包括界定电弧室的电弧室外壳，电弧室外壳在固定位置上具有提取板，提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件，挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。以自离子源提取的离子束处理工件，并结合离子源与所述待处理工件的相对移动，使得仅用一种离子源即能在工件上形成二维离子植入图案。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 组件 离子源 离子 植入 | ||
【主权项】：
一种离子源，其特征在于包括：电弧室外壳，界定电弧室，所述电弧室外壳在固定位置上具有提取板，所述提取板界定多个提取孔；以及挡帘组件，被安装于所述电弧室外侧的靠近所述提取板处，所述挡帘组件被配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分，所述挡帘组件包括多个挡帘，所述多个挡帘中的每一个被配置以控制来自所述多个提取孔中的相关联的提取孔的离子束的提取。
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