[发明专利]用于HDD位元图案化介质图案转印的图案强化在审
| 申请号： | 201380058513.1 | 申请日： | 2013-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN104813402A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 罗曼·古科;史蒂文·韦尔韦贝克;亚历山大·康托斯;阿道夫·米勒·艾伦;凯文·莫雷斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G11C11/15 | 分类号： | G11C11/15 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于在基板上形成具有磁特性图案的磁性层的方法和装置。所述方法包括使用金属氮化物硬模层来通过等离子体暴露图案化所述磁性层。所述金属氮化物层是使用纳米压印图案化工艺用氧化硅图案负性材料来图案化的。使用含卤素和氧的远程等离子体来使图案在金属氮化物中，并且在等离子体暴露之后使用腐蚀性的湿式剥离工艺去除所述图案。所有的处理都在低温下进行，以避免热损伤磁性材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 hdd 位元 图案 介质 强化 | ||
【主权项】：
一种图案化基板的方法，所述方法包括：在所述基板的磁致激活表面上形成金属氮化物膜；图案化所述金属氮化物膜以形成用所述磁致激活表面的无保护畴分隔的所述磁致激活表面的受保护畴。通过用等离子体处理所述基板来改变所述磁致激活表面的所述无保护畴的磁特性；和去除所述金属氮化物膜以形成所述基板的具有磁特性图案的表面。
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