[发明专利]银反射膜、光反射构件及光反射构件的制造方法在审
| 申请号： | 201380051747.3 | 申请日： | 2013-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN104685108A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 中津川达也;小林良聪 | 申请（专利权）人： | 古河电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C25D7/00 | 分类号： | C25D7/00;C25D7/08;C25D21/10;G02B5/08;H01L33/60;H01L33/62 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 以低成本且生产性良好地提供一种反射率高、于加热前后反射率也不易变化、且不易软化的银反射膜与使用该银反射膜的光反射构件；以及通过镀敷法提供一种具有耐热性良好的镀银反射膜及导电性基材的光反射构件。一种银反射膜，以及由该银反射膜及导电性基材构成的光反射构件与其制造方法。该银反射膜由银或银合金构成，上述银反射膜的结晶的(100)面取向于上述银反射膜的反射面法线方向的区域于上述银反射膜的表面有50％以上，且于上述银反射膜的表面存在上述银反射膜的结晶的(221)面取向于上述银反射膜的反射面法线方向的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 构件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种银反射膜，其由银或银合金构成，其特征在于：所述银反射膜的表面上，所述银反射膜的结晶的(100)面取向于所述银反射膜的反射面法线方向的区域为50％以上，且在所述银反射膜的表面存在所述银反射膜的结晶的(221)面取向于所述银反射膜的反射面法线方向的区域。
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