[发明专利]基板处理装置

摘要

根据本发明的一个实施方式，一种用于处理基板的基板处理装置包括具有开放式上部的主腔室，所述主腔室具有在其侧壁内限定的通道，使得基板能够进入/退出；腔室盖，所述腔室盖置于所述主腔室的开放式上部上，并形成与外部阻隔开的处理空间，用于执行处理；承座板，所述承座板具有含开放式下部的内部空间，并且所述基板置于所述承座板上；以及主加热器，所述主加热器可旋转地置于所述内部空间中，并与所述承座板间隔开，用于加热所述承座板。

主权项

一种基板处理装置，在所述基板处理装置中执行关于基板的处理，所述基板处理装置包括：具有开放式上部的主腔室，所述主腔室具有在其侧壁内限定的通道，使得基板能够进入；腔室盖，所述腔室盖置于所述主腔室的开放式上部上，以提供相对外部密封的处理空间，在所述处理空间中执行处理；承座板，所述基板置于所述承座板上，所述承座板具有含开放式下部的内部空间；以及主加热器，所述主加热器可旋转地置于所述内部空间中，所述主加热器与所述承座板间隔开，以加热所述承座板，其中，所述基板处理装置还包括支撑构件，所述支撑构件置于所述承座板的开放式下部，以避免所述内部空间中的热扩散到外部，其中，所述基板处理装置还包括旋转轴，所述旋转轴置于所述主加热器的下部以支撑所述主加热器，所述旋转轴能够与所述主加热器一起旋转，其中，所述主加热器包括：加热板，所述加热板置于所述旋转轴的上部，所述加热板插入到所述内部空间中；以及加热线，所述加热线置于所述加热板内，以加热所述承座板，其中，所述主腔室具有开放式下部，并且所述基板处理装置还包括泵吸本体，所述泵吸本体置于所述主腔室的开放式下部，以提供内部安装空间，所述泵吸本体沿着所述旋转轴的周边设置，其中，所述主加热器与所述旋转轴置于所述内部安装空间内，并且所述基板处理装置包括：多个固定器，所述多个固定器支撑放置在其上的所述基板，所述固定器能够在上升位置与下降位置之间移动；升降轴，所述升降轴连接至所述固定器，以升降所述固定器；排放孔，所述排放孔沿着所述旋转轴的周边限定在所述泵吸本体内，以将处理气体排放至外部；以及升降孔，所述升降轴插入到所述升降孔中，所述升降孔限定在所述排放孔的外部。