[发明专利]粉末等离子处理装置有效
| 申请号： | 201380032762.3 | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN104519992A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 石东篡;郑熔镐;郑贤永 | 申请（专利权）人： | 韩国基础科学支援研究院 |
| 主分类号： | B01J19/08 | 分类号： | B01J19/08;B01J2/00;H05H1/42 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;龚敏 |
| 地址： | 韩国大田*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开一种粉末等离子处理装置。粉末等离子处理装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够对粉末进行均匀处理，能够通过控制粉末接触等离子的时间对粉末进行有效处理。 | ||
| 搜索关键词： | 粉末 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种粉末等离子处理装置，是用于对粉末进行等离子处理的装置，包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中，所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。
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