[发明专利]等离子体坩埚密封有效
| 申请号： | 201380030440.5 | 申请日： | 2013-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN104395984B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | A·S·尼特;B·普勒斯顿 | 申请（专利权）人： | 塞拉维申有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/395 | 分类号： | H01J9/395;H01J9/40;H01J65/04 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司11280 | 代理人： | 王勇,王博 |
| 地址： | 英国白*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子体坩埚(92)具有通孔(93)和对接密封至坩埚的端面(901，902)上的两个管(981，982)。一个管(981)在填充坩埚之前封闭。所述管被制造端头并且在玻璃车床上加工以使其形成有平面端部(983)。在排空、投放和充气之后，端部(983)被加热以驱除配料中的杂质，其活性组分凝结在孔(93)内。然后，以类似的方式制造另一管(902)的端头。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 坩埚 密封 | ||
【主权项】：
一种密封填充的LUWPL的方法，LUWPL适于与周围的法拉第罩一起使用以在填充的中空中产生微波激发的等离子体，所述方法包括以下步骤：·提供仅在一端具有中空开口的透明材料的未密封的LUWPL，所述中空在所述未密封的LUWPL的制造件的一个表面上具有开口端并且朝向其另一表面延伸；·提供可熔融至所述制造件的透明材料的密封管，所述管的横截面小于所述制造件的横截面，·所述密封管与所述中空对齐并且在开放中空的开口处远离所述一个表面延伸；·熔融所述密封管，·所述密封管直接气密性密封至与所述中空连通的所述未密封LUWPL的制造件，在密封之后，所述一个表面的剩余部分在径向上超过所述管；·通过所述密封管将可激发材料加入所述中空中；·通过所述密封管将所述中空排空，所述管被定向为使得所述可激发材料下降到所述中空的另一表面端；·加热所述中空的另一表面端周围的所述透明材料以从所述可激发材料驱除挥发性杂质，所述杂质被排出；·允许所述可激发材料至少主要在所述中空内凝结；·通过所述管将惰性气体导入所述中空中；以及·通过在所述开口处或所述开口附近密封所述密封管来密封所述中空，以包封所述可激发材料和所述惰性气体。
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