[发明专利]基于梯度的图案和评价点选择有效
| 申请号： | 201380028427.6 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104395828B | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 刘晓峰;R·C·豪威尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/70 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在此描述了一种用于光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻成像设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻过程具有多个设计变量，所述方法包括相对于至少一个设计变量，计算光刻过程的多个评价点或图案中的每个的梯度；以及基于所述梯度来从所述多个评价点或图案中选择评价点的子组。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 梯度 图案 评价 选择 | ||
【主权项】：
一种用于光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻成像设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻过程具有多个设计变量，所述设计变量中的至少一些设计变量包括用于调整所述光刻成像设备的辐射束的强度分布和波前形状的投影光学装置的可调节特性，所述方法包括：相对于至少一个设计变量，计算在所述设计布局的所述一部分中光刻过程的多个评价点或图案中的每个评价点或图案的梯度，其中所述至少一个设计变量包括所述投影光学装置的可调节特性中的至少一个可调节特性；基于所述梯度来从所述多个评价点或图案中选择评价点或图案的子组；其中所述方法还包括将所述多个评价点或图案基于所述梯度分组成多个组，所述子组包括选自所述多个组中的每一组的至少一个构件。
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