[发明专利]用于高密度阵列芯片的流动池有效

专利信息
申请号: 201380026167.9 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN104394990B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: B.J.佩克;M.富勒;D.韦斯特;A.德拉克鲁兹 申请(专利权)人: 考利达基因组股份有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 曲莹
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了具有密封入口和出口的生化流动池,用于进行大批量高分子化验。具有可脱离入口和出口连接器的流动池包括入口歧管、盖玻片和布置在盖玻片下面以形成反应腔室的基底,其中基底布置成部分地覆盖入口歧管,使得狭槽沿着基底的整个边缘形成,流体可以以均衡的压力并且无气泡地从入口歧管流过狭槽,基本上围绕基底的整个边缘,并且流入反应腔室。在另一实施例中,流动池包括出口歧管;两个或更多个流动区域,经由其自己的流量分配漏斗而各连接到其自己的装载端口;每个装载端口,连接到出口歧管;及插头,位于出口歧管的与每个装载端口相反的壁中。
搜索关键词: 用于 高密度 阵列 芯片 流动
【主权项】:
一种流动池,包括:盖玻片;基底,与所述盖玻片间隔开,以在所述盖玻片与所述基底之间形成反应腔室,所述基底包括第一边缘、与所述第一边缘相对的第二边缘以及附着部位的阵列,用于引入到流动池中的高分子的附着;入口,与所述反应腔室流体连接,所述入口包括入口端口和入口歧管,其中所述基底部分地覆盖所述入口歧管,以沿着所述基底的第一边缘限定入口狭槽以及在所述基底下方所述入口歧管中的空间;出口,与所述反应腔室流体连接,所述出口包括出口端口;以及气泡口,气泡口与在基底下方的入口歧管中的空间流体连接,其中捕获在所述空间中的气泡流出气泡口,而不进入反应腔室;其中,流入所述流动池中的流体流过所述入口端口、所述入口歧管和所述狭槽,围绕所述基底的第一边缘,并且流入所述反应腔室。
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