[发明专利]用于热解反应器的热隔离组件无效
申请号: | 201380015106.2 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN104203395A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | P·F·柯森科思恩;C·全;F·赫什科维茨;R·L·安特拉姆 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚化学专利公司 |
主分类号: | B01J19/02 | 分类号: | B01J19/02;C10G9/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 夏正东 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明的公开内容涉及隔离组件及其用途,例如在再生反应器内的用途。具体地,针对各种反应器组件描述了在反应器,例如热再生反应器,例如再生逆流反应器内,管理来自氧化和热解反应的温度的工艺与装置。 | ||
搜索关键词: | 用于 反应器 隔离 组件 | ||
【主权项】:
一种烃热解反应器,该反应器包括:工艺‑流程组件;和与该工艺‑流程组件相邻的隔离组件;其中该隔离组件包括氧化物,该氧化物具有:i)在范围为800℃‑1600℃的温度下在致密相内≤5W/m·K的本体热导率;ii)基于隔离组件的体积,≥30vol%的孔隙率;iii)不小于2060℃的熔点;和iv)当在下述条件下,保持氧化物形式:a)在第一温度下暴露于第一气体下时,所述第一气体具有i)1x10‑15巴的氧分压,和ii)比在第一温度下氧化锆相变成碳化锆时大的碳分压;其中在该氧分压下,第一温度小于锆的三相点的温度;和/或b)在第二温度下暴露于具有氧分压的第二气体下时,其中在该氧分压下,所述第二温度大于或等于锆的三相点的温度。
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