[实用新型]气相蚀刻装置

摘要

本实用新型公开一种气相蚀刻装置，用以对待处理晶圆的边缘进行蚀刻。气相蚀刻装置包含座体、承载平台及环状导气墙。座体具有环状出气口。承载平台设置于座体上且被环状出气口环绕。承载平台具有用以承载上述待处理晶圆且外缘位于上述待处理晶圆的边缘之内的第一顶面。环状导气墙设置于座体上，并环绕于环状出气口之外。环状导气墙具有内缘位于上述待处理晶圆的边缘之外的第二顶面。第一顶面相对座体具有第一高度。第二顶面相对座体具有第二高度。第二高度为第一高度的0.5～1.5倍。

主权项

一种气相蚀刻装置，用以对待处理晶圆的边缘进行蚀刻，其特征在于，该气相蚀刻装置包含：座体，具有环状出气口；承载平台，设置于该座体上且被该环状出气口环绕，具有用以承载上述待处理晶圆且外缘位于上述待处理晶圆的边缘之内的第一顶面；以及环状导气墙，设置于该座体上，并环绕于该环状出气口之外，具有内缘位于上述待处理晶圆的边缘之外的第二顶面；其中该第一顶面相对该座体具有第一高度，该第二顶面相对该座体具有第二高度，并且该第二高度为该第一高度的0.5～1.5倍。