[实用新型]一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构有效
申请号: | 201320683055.8 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN203559124U | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 凌复华;吴凤丽;陈英男;王燚;国建花 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 甄玉荃 |
地址: | 110179 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构,该结构针对现有技术由于设计不够合理,气体在进入腔室之前已进行接触,不易于控制沉积时间的技术问题。它包括喷淋头主体、隔板、挡板、盖板、内圈配气环盖板、外圈配气环盖板。上述主体上设有横向沟槽及纵向沟槽,横向沟槽及纵向沟槽间形成凸台,凸台上制有贯通孔,上述横向沟槽及纵向沟槽上制有半通孔。上述主体的上部设有盖板;下部腔体内设有隔板,隔板将喷淋结构整体分隔为上层空间及下层空间两个独立的空间。本实用新型属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域,具有结构合理、气体反应效果好及节约生产成本的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 纵横交错 沟槽 气体 独立 通道 喷淋 结构 | ||
【主权项】:
一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构,其特征在于:它包括喷淋头主体、隔板、挡板、盖板、内圈配气环盖板、外圈配气环盖板,上述主体上设有横向沟槽及纵向沟槽,横向沟槽及纵向沟槽间形成凸台,凸台上制有贯通孔,上述横向沟槽及纵向沟槽上制有半通孔,上述主体的上部设有盖板;下部腔体内设有隔板,隔板将喷淋结构整体分隔为上层空间及下层空间两个独立的空间,上述隔板上的导气柱分别与盖板上的外圈配气环盖板、内圈配气环盖板、气体B进口及气体C进口相通,上述盖板上设有气体A进口,气体A进口下设挡板,上述喷淋头主体上设有气体C出口、气体B出口及气体A出口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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