[实用新型]一种深紫外发光二极管有效
申请号: | 201320641350.7 | 申请日: | 2013-10-17 |
公开(公告)号: | CN203596360U | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 吴志浩;方妍妍;戴江南;陈长清 | 申请(专利权)人: | 武汉光电工业技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/36 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 430075 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种深紫外发光二极管。所述发光二极管,包括:衬底、第一n型AlGaN层、AlGaN/AlGaN多量子阱层、p型AlGaN电子阻挡层、第二n型AlGaN层、p型端电极、n型电极、倒装基板;第一n型AlGaN层具有第一表面和第二表面,AlGaN/AlGaN多量子阱层形成在第一表面上,n型电极形成在第二表面上;p型端电极形成在第二n型AlGaN层上;倒装基板通过焊料分别与p型端电极和n型电极焊接。本实用新型由于器件表面隧穿结的形成,p型端电极采用与n型材料形成良好欧姆接触的且具有高反射率的金属材料,提高紫外发光二极管芯片的出光效率,从而提高整体器件的外量子效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 深紫 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种深紫外发光二极管,其特征在于,包括: 衬底; 第一n型AlGaN层,形成在所述衬底上,具有第一表面和第二表面; AlGaN/AlGaN多量子阱层,形成在所述第一n型AlGaN层的第一表面上; p型AlGaN电子阻挡层,形成在所述AlGaN/AlGaN多量子阱层上; 第二n型AlGaN层,形成在所述p型AlGaN电子阻挡层上,所述第二n型AlGaN层与所述p型AlGaN电子阻挡层形成隧穿结; p型端电极,形成在所述第二n型AlGaN层上,所述p型端电极为具有高反射率的金属材料,与所述第二n型AlGaN层形成欧姆接触; n型电极,形成在所述第一n型AlGaN层的第二表面上; 倒装基板,通过焊料分别与所述p型端电极和所述n型电极焊接。
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