[实用新型]一种深紫外发光二极管有效

专利信息
申请号: 201320641350.7 申请日: 2013-10-17
公开(公告)号: CN203596360U 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 吴志浩;方妍妍;戴江南;陈长清 申请(专利权)人: 武汉光电工业技术研究院有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/36
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 430075 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种深紫外发光二极管。所述发光二极管,包括:衬底、第一n型AlGaN层、AlGaN/AlGaN多量子阱层、p型AlGaN电子阻挡层、第二n型AlGaN层、p型端电极、n型电极、倒装基板;第一n型AlGaN层具有第一表面和第二表面,AlGaN/AlGaN多量子阱层形成在第一表面上,n型电极形成在第二表面上;p型端电极形成在第二n型AlGaN层上;倒装基板通过焊料分别与p型端电极和n型电极焊接。本实用新型由于器件表面隧穿结的形成,p型端电极采用与n型材料形成良好欧姆接触的且具有高反射率的金属材料,提高紫外发光二极管芯片的出光效率,从而提高整体器件的外量子效率。
搜索关键词: 一种 深紫 发光二极管
【主权项】:
一种深紫外发光二极管,其特征在于,包括: 衬底; 第一n型AlGaN层,形成在所述衬底上,具有第一表面和第二表面; AlGaN/AlGaN多量子阱层,形成在所述第一n型AlGaN层的第一表面上; p型AlGaN电子阻挡层,形成在所述AlGaN/AlGaN多量子阱层上; 第二n型AlGaN层,形成在所述p型AlGaN电子阻挡层上,所述第二n型AlGaN层与所述p型AlGaN电子阻挡层形成隧穿结; p型端电极,形成在所述第二n型AlGaN层上,所述p型端电极为具有高反射率的金属材料,与所述第二n型AlGaN层形成欧姆接触; n型电极,形成在所述第一n型AlGaN层的第二表面上; 倒装基板,通过焊料分别与所述p型端电极和所述n型电极焊接。 
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