[实用新型]一种磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201320458139.1 | 申请日： | 2013-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN203462119U | 公开（公告）日： | 2014-03-05 |
| 发明（设计）人： | 房明;崔培育 | 申请（专利权）人： | 天津市长久科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300384 天津市西青区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种磁控溅射设备，包括固定板、背板及靶材，所述背板及靶材通过竖直板固定在所述固定板上，所述背板上焊接有所述靶材，所述靶材四周边缘设有挡边条，所述靶材下方被击穿部位设有凸起部，所述凸起部呈圆形，所述背板的上表面设有凹槽，所述凹槽与所述凸起部形状相匹配，所述凸起部的数量与所述凹槽的数量相同，均为四个，四个所述凸起部分别设置于所述靶材的四个角上。本实用新型的有益效果是可以有效提高靶材利用率，延长靶材寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射设备，包括固定板、背板及靶材，其特征在于：所述背板及靶材通过竖直板固定在所述固定板上，所述背板上焊接有所述靶材，所述靶材四周边缘设有挡边条，所述靶材下方被击穿部位设有凸起部，所述凸起部呈圆形，所述背板的上表面设有凹槽，所述凹槽与所述凸起部形状相匹配，所述凸起部的数量与所述凹槽的数量相同，均为四个，四个所述凸起部分别设置于所述靶材的四个角上。
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