[实用新型]一种密封式化学抛光装置有效
| 申请号： | 201320341649.0 | 申请日： | 2013-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN203371375U | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 潘春年 | 申请（专利权）人： | 湖南华天光电惯导技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410100 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种密封式化学抛光装置，包括抛光机和设于抛光机内的抛光腔，其还包括设于抛光机上用于测量抛光腔内压强的气压计，与抛光腔连通的抽真空装置，分别与所述气压计以及抽真空装置连接的控制器。本实用新型通过设置抽真空装置将抛光机的抛光腔抽成真空状态，这样工件在抛光腔内加工时，不会被空气氧化，进而提高了工件的抛光加工质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 化学抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种密封式化学抛光装置，包括抛光机（1）和设于抛光机（1）内的抛光腔（2），其特征在于：还包括设于抛光机（1）上用于测量抛光腔（2）内压强的气压计（9），与抛光腔（2）连通的抽真空装置（3），分别与所述气压计（9）以及抽真空装置（3）连接的控制器（8）。
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