[实用新型]一种密封式化学抛光装置

权利要求书

1.一种密封式化学抛光装置，包括抛光机（1）和设于抛光机（1）内的抛光腔（2），其特征在于：还包括设于抛光机（1）上用于测量抛光腔（2）内压强的气压计（9），与抛光腔（2）连通的抽真空装置（3），分别与所述气压计（9）以及抽真空装置（3）连接的控制器（8）。

2.根据权利要求1所述的密封式化学抛光装置，其特征在于：所述抛光机（1）上设有与抛光腔（2）连通的第一真空管（4），该第一真空管（4）上设有第一法兰盘（6）；所述抽真空装置（3）上设有第二真空管（5），该第二真空管（5）上设有第二法兰盘（7），且所述第一法兰盘（6）与第二法兰盘（7）密封配合。

3.根据权利要求1或2所述的密封式化学抛光装置，其特征在于：所述控制器（8）为工业计算机。