[发明专利]聚焦环和应用聚焦环的溅射反应器有效
| 申请号： | 201310745989.4 | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN104752138A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;赵凯;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;张亚光 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种聚焦环和应用聚焦环的溅射反应器，所述聚焦环具有内表面，所述内表面具有花纹，所述花纹的深度大于850μm且小于1000μm。所述聚焦环具有所述深度的花纹，能够大幅提高聚焦环对吸收量对反溅射颗粒物的吸收量，并且可以改善聚焦环对较大的溅射粒子的吸收，从而防止反溅射颗粒物被聚焦环吸附后重新脱落。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 应用 溅射 反应器 | ||
【主权项】：
一种聚焦环，其特征在于，所述聚焦环具有内表面，所述内表面具有花纹，所述花纹的深度大于850μm且小于1000μm。
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