[发明专利]一种高附着力高硬度低摩擦系数类金刚石膜的涂层设备有效
| 申请号： | 201310725837.8 | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN103668061B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 陈远达;王胜云;何静 | 申请（专利权）人： | 湖南中航超强金刚石膜高科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 415200 *** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种可实现高附着力、高硬度、低摩擦系数类金刚石膜的涂层设备，它包括涂层室、行星旋转工件架、磁过滤弧源、分子泵。本发明采用磁过滤功能与高真空多弧靶结构，采用本发明制作的类金刚石膜涂层具有结构致密、附着力强、硬度高、摩擦系数小等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 附着力 硬度 摩擦系数 金刚石 涂层 设备 | ||
【主权项】：
1.一种高附着力高硬度低摩擦系数类金刚石膜的涂层设备，其特征在于：它包括涂层室、行星旋转工件架、磁过滤弧源、分子泵、真空系统，所述涂层室为立式圆柱形，整体双层水冷式结构，所述涂层室前部设有进料门，所述涂层室的顶部设有管状加热器、热电偶接口，所述涂层室的底部设有进气口和行星旋转工件架，所述行星旋转工件架底部连接有驱动系统，所述涂层室的侧壁安装有磁过滤弧源，所述涂层室的后部安装有分子泵和真空系统；多束弧源使其多方位触发电极和石墨阴极之间产生真空电弧放电；所述磁过滤弧源由引弧电极、阴极支架、靶材、推弧电磁线圈、聚焦电磁线圈、弯头组成所述靶材安装在阴极支架上，所述引弧电极和所述阴极支架外接引弧电源，所述推弧电磁线圈和所述聚焦电磁线圈安装在所述引弧电极和阴极支架产生电弧处的外围。
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