[发明专利]纳米压印装置及其压印方法在审

专利信息
申请号: 201310688734.9 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN103698975A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 陈沁 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;马翠平
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及纳米印刷技术领域,尤其是提供一种纳米压印装置的压印方法,包括如下步骤:提供一基底以及至少一个预设有纳米图形单元的压印版;所述压印版与所述基底对准,使所述压印版对所述基底施压并将所述纳米图形单元转移至所述基底上形成纳米图案单元,然后分离所述压印版和所述基底,完成一个压印周期;重复所述压印周期若干次,使所述基底上获得由若干个所述纳米图案单元形成的纳米图案阵列。本发明还提供这种纳米压印装置的结构。本发明通过仅具有纳米图形单元的压印版,将纳米图形单元周期性重复转移至基底上,形成纳米图案阵列。且压印方法灵活多变,方便可控,大大降低纳米图案阵列的制作成本和时长。
搜索关键词: 纳米 压印 装置 及其 方法
【主权项】:
一种纳米压印装置的压印方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:提供一基底(20)以及至少一个预设有纳米图形单元(30a)的压印版(30);步骤二:使所述压印版(30)对准所述基底(20)施压,将所述纳米图形单元(30a)转移至所述基底(20)上形成纳米图案单元(21),然后分离所述压印版(30)和所述基底(20),完成一个压印周期;重复所述压印周期若干次,使所述基底(20)上获得由若干个所述纳米图案单元(21)形成的纳米图案阵列(22)。
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