[发明专利]一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法有效
| 申请号： | 201310683800.3 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103698982A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 张力舟;尹镇镐;孟祥明;张磊;张畅;郭建强 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 230011 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法，属于液晶显示器制造技术领域，其可解决现有的机台上的反射平面镜条的平坦度调节花费时间较长且调节精度较低的问题。本发明的曝光机包括机台、反射平面镜条和激光干涉计，机台用于承载待曝光基板，激光干涉计包括参考光平面镜，参考光平面镜设于曝光区的固定主体横梁上，反射平面镜条设于机台上，反射平面镜条和参考光平面镜用于对激光干涉计发出的激光光束进行接收和反射，激光干涉计用于根据接收的反射激光计算机台的实际移动距离，曝光机还包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，用于校准反射平面镜条的平坦度。调节方法包括应用上述自动校准装置校准反射平面镜条的平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜黑 矩阵 曝光 及其 调节 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜黑矩阵曝光机，包括机台、反射平面镜条和激光干涉计，所述机台用于承载待曝光基板，所述激光干涉计包括参考光平面镜，所述参考光平面镜设于曝光区的固定主体横梁上，所述反射平面镜条设于机台上，所述反射平面镜条和参考光平面镜用于对所述激光干涉计发出的激光光束进行接收和反射，所述激光干涉计用于根据接收的反射激光计算机台的实际移动距离，其特征在于，所述曝光机还包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，其用于校准反射平面镜条的平坦度。
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