[发明专利]用于光刻设备的掩模整形装置及掩模整形方法有效
| 申请号： | 201310563365.0 | 申请日： | 2013-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN104635427B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 李玉龙;李玲雨;许琦欣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的掩模固位系统，包括：掩模台和被承载的掩模；其特征在于，还包括掩模真空整形装置，用于使所述掩模保持面形、补偿挠曲。本发明同时公开一种用于光刻设备的掩模整形的方法。与现有技术相比较，本发明解决了步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。通过在掩模台和密封舱之间设置卡合装置，避免发生位移。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 光刻设备 整形装置 掩模板 掩模台 整形 步进扫描光刻机 变形补偿 固位系统 卡合装置 扫描运动 有效控制 密封舱 面形 挠曲 物镜 物面 变形 承载 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备的掩模固位系统，包括：掩模台和被承载的掩模；其特征在于，还包括掩模真空整形装置，用于使所述掩模保持面形；掩模覆盖机构，用于在上方与在下方的所述掩模配合形成或者脱离封闭区域；气动控制系统，用于探测所述封闭区域内的气压值并控制所述封闭区域的气压值小于大气压；所述气动控制系统包括：风机，用于将所述封闭区域内空气抽出；和压力传感器，用于探测所述封闭区域内的气压值；和流量控制器；所述掩模台和掩模舱盖还设置防止水平向和垂向位移的卡合装置。
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