[发明专利]提高再聚焦分辨率的负折射光子晶体双平板透镜系统无效
申请号: | 201310544501.1 | 申请日: | 2013-11-06 |
公开(公告)号: | CN103630999A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 朱娜;廉颖霏;江晓明 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B3/02 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 汪旭东 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 发明公开了一种提高再聚焦分辨率的负折射光子晶体双平板透镜系统,属于光学器件技术领域。本发明包括光源、探测器、上板和下板,其中上板和下板相互平行,两板均为二维光子晶体,通过在GaAs介质基底刻蚀三角晶格排列的圆柱型空气孔制成;光源位于下板下方,其与下板下表面之间的纵向距离为λ,横向位于两板的中间,光源的中心频率为0.3068a/λ,探测器与光源组合在一起,待观测目标位于上板上方,并处在光源的正上方,a为二维光子晶体的晶格常数,λ等于1/0.3068um。本发明能够更好地提高光子晶体透镜系统的再聚焦分辨率,从而能够更好地优化探测成像系统的性能。 | ||
搜索关键词: | 提高 聚焦 分辨率 折射 光子 晶体 平板 透镜 系统 | ||
【主权项】:
提高再聚焦分辨率的负折射光子晶体双平板透镜系统,其特征在于,包括光源、探测器、上板和下板,其中:上板和下板相互平行,两板均为二维光子晶体,通过在GaAs介质基底刻蚀三角晶格排列的圆柱型空气孔制成;光源位于下板下方,其与下板下表面之间的纵向距离为λ,横向位于两板的中间,光源的中心频率为0.3068a/λ;探测器与光源组合在一起,待探测目标位于上板上方,并处在光源的正上方;上述a为二维光子晶体的晶格常数,λ等于1/0.3068um。
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