[发明专利]压力传感器及其形成方法在审
申请号: | 201310542786.5 | 申请日: | 2013-11-05 |
公开(公告)号: | CN104614119A | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 刘国安;徐伟;刘煊杰 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01L9/12 | 分类号: | G01L9/12;B81B3/00;B81C1/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种压力传感器及其形成方法,其中压力传感器包括:基底,在基底中形成有晶体管;位于基底上的层间介质层,所述层间介质层覆盖基底和晶体管,在层间介质层中形成有下极板,所述下极板的上表面暴露,所述下极板与晶体管电连接;位于所述层间介质层上的压力感应膜,所述压力感应膜覆盖层间介质层且与晶体管电连接,所述下极板与压力感应膜之间具有空腔;位于压力感应膜上的多个相互隔开的块状件,所述块状件位于空腔上方,所述压力感应膜上表面露出。本技术方案中,多个块状件的重力使压力感应膜本身的应力得到释放,压力传感器的灵敏性增强,性能较佳。 | ||
搜索关键词: | 压力传感器 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种压力传感器,其特征在于,包括:基底,在所述基底中形成有晶体管;位于所述基底上的层间介质层,所述层间介质层覆盖基底和晶体管,在所述层间介质层中形成有下极板,所述下极板的上表面暴露,所述下极板与晶体管电连接;位于所述层间介质层上的压力感应膜,所述压力感应膜覆盖层间介质层且与晶体管电连接,所述下极板与压力感应膜之间具有空腔;位于所述压力感应膜上的多个相互隔开的块状件,所述块状件位于空腔上方,所述压力感应膜上表面露出。
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