[发明专利]压力传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201310542786.5 申请日: 2013-11-05
公开(公告)号: CN104614119A 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 刘国安;徐伟;刘煊杰 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G01L9/12 分类号: G01L9/12;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种压力传感器及其形成方法,其中压力传感器包括:基底,在基底中形成有晶体管;位于基底上的层间介质层,所述层间介质层覆盖基底和晶体管,在层间介质层中形成有下极板,所述下极板的上表面暴露,所述下极板与晶体管电连接;位于所述层间介质层上的压力感应膜,所述压力感应膜覆盖层间介质层且与晶体管电连接,所述下极板与压力感应膜之间具有空腔;位于压力感应膜上的多个相互隔开的块状件,所述块状件位于空腔上方,所述压力感应膜上表面露出。本技术方案中,多个块状件的重力使压力感应膜本身的应力得到释放,压力传感器的灵敏性增强,性能较佳。
搜索关键词: 压力传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
一种压力传感器,其特征在于,包括:基底,在所述基底中形成有晶体管;位于所述基底上的层间介质层,所述层间介质层覆盖基底和晶体管,在所述层间介质层中形成有下极板,所述下极板的上表面暴露,所述下极板与晶体管电连接;位于所述层间介质层上的压力感应膜,所述压力感应膜覆盖层间介质层且与晶体管电连接,所述下极板与压力感应膜之间具有空腔;位于所述压力感应膜上的多个相互隔开的块状件,所述块状件位于空腔上方,所述压力感应膜上表面露出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310542786.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top