[发明专利]纳米压印对准装置有效
| 申请号： | 201310523254.7 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN103529661A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 史晓华;刘晓成 | 申请（专利权）人： | 苏州光舵微纳科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人： | 魏亮芳 |
| 地址： | 215513 江苏省苏州市常熟市常熟*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印对准装置，包括视觉观察机构，其还包括：分别用于固定被测物的第一、第二平台，其设置于上述视觉观察机构下方，第一平台安装于一平台座上，第二平台连接一球轴机构、通过该球轴机构进行多方向多角度的摆动；该球轴机构的下方还设置有用于驱动上述第二平台多个方向运动的多个驱动机构。本发明的装置相比于现有技术可以实现模板与基片更好地紧密挤压和固定，从而更优地实现对微纳图案的重复有序压印。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 对准 装置 | ||
【主权项】：
纳米压印对准装置，包括视觉观察机构，其特征在于：还包括：分别用于固定被测物的第一、第二平台，其设置于所述视觉观察机构下方，第一平台安装于一平台座上，第二平台连接一球轴机构、通过所述球轴机构进行多方向多角度的摆动；所述球轴机构的下方还设置有用于驱动所述第二平台多个方向运动的多个驱动机构。
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