[发明专利]具有串联的双NMOS的集成电路及制备方法有效

专利信息
申请号: 201310521567.9 申请日: 2013-10-29
公开(公告)号: CN103545312A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 王钊 申请(专利权)人: 无锡中星微电子有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 北京亿腾知识产权代理事务所 11309 代理人: 陈霁
地址: 214135 江苏省无锡市无锡*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种具有串联的双NMOS的集成电路,包括:至少一个第一NMOS,置于晶圆第一面,具有第一栅极和第一源极;至少一个第二NMOS,置于晶圆第二面,具有第二栅极和第二源极;所述至少一个第一NMOS和至少一个第二NMOS在与晶圆表面垂直的纵向上共用N-型半导体衬底的N-区域,所述至少一个第一NMOS的栅极和至少一个第二NMOS的源极的位置彼此对应,所述至少一个第一NMOS的源极和至少一个第二NMOS的栅极的位置彼此对应。本发明实现了导通电阻相等的情况下,晶片面积更小,易于采用更小的封装,使芯片面积更小。
搜索关键词: 具有 串联 nmos 集成电路 制备 方法
【主权项】:
一种具有串联的双NMOS的集成电路,其特征在于,所述集成电路包括:至少一个第一NMOS,置于晶圆第一面,具有第一栅极和第一源极;至少一个第二NMOS,置于晶圆第二面,具有第二栅极和第二源极;所述至少一个第一NMOS和至少一个第二NMOS在与晶圆表面垂直的纵向上共用N‑型半导体衬底的N‑区域,所述至少一个第一NMOS的栅极和至少一个第二NMOS的源极的位置彼此对应,所述至少一个第一NMOS的源极和至少一个第二NMOS的栅极的位置彼此对应。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中星微电子有限公司,未经无锡中星微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310521567.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top