[发明专利]包含咪唑啉缓蚀剂的感光膜清洗液在审
| 申请号： | 201310498900.9 | 申请日： | 2013-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN103529656A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 杨桂望 | 申请（专利权）人： | 杨桂望 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省青岛*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型的感光膜清洗液，其包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。本发明提供的感光膜清洗剂感光膜清洗能力强且对半导体晶片图案和基材腐蚀性较低。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 咪唑 啉缓蚀剂 感光 清洗 | ||
【主权项】：
一种新型的感光膜清洗液，其特征在于：包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。
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