[发明专利]应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置

摘要

本发明提供了一种应用于晶圆化学机械平坦化（CMP）过程中的抛光垫修整装置，主要由机架、伺服电机、减速器、气动气囊、钢丝软轴、摆动臂、杠杆支撑轴、支撑底板、底板支撑轴、十字球头结构等部件组成；本装置采用伺服电机和减速器实现修整器摆动臂在抛光台上的摆动以及钻石轮的转动；通过杠杆机构分别对两个气动气囊充气以带动摆动臂抬升、下降及对抛光台施加修整力；采用钢丝软轴传动方式将旋转电机远离抛光区域放置，以避免因长期暴露在抛光液环境中对旋转电机造成一定的腐蚀；在摆动臂修整端设计有十字球头结构，以使钻石轮在抛光垫修整过程中始终与抛光台面保持水平接触。

主权项

一种应用在晶圆化学机械平坦化（CMP）设备中的抛光垫修整装置，其特征在于：该装置包括：机架、摆动电机、减速器、底板支撑轴、支撑底板、气动气囊、旋转电机、摆动臂、修整减速器、钻石轮；其中，气动气囊安装在摆动臂的一侧用于控制摆动臂抬升、下降，修整减速器安装在摆动臂另一侧，修整减速器下端装有钻石轮，旋转电机通过传动机构带动钻石轮旋转；摆动电机安装在机架内，摆动电机上端与减速器连接；摆动臂、气动气囊、旋转电机、修整减速器、钻石轮构成一个整体通过支撑底板和底板支撑轴安装于减速器上，并通过摆动电机和减速器的驱动进行整体的摆动运动。