[发明专利]共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法

摘要

一种共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法，该共轭距可变的光刻投影物镜的构成沿物平面至像平面的光轴方向顺次包括由第一透镜、第二透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜构成的第一组合透镜组、孔径光阑、由第六透镜、第七透镜和第八透镜构成的第二组合透镜组，第一组合透镜组的后焦点、孔径光阑的中心和第二组合透镜组的前焦点三者重合构成双远心光路。本发明可以有效地实现待曝光HDI基板厚度变化达到0.025mm～3mm，可以有效的在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等，实现良好的成像质量。

主权项

一种共轭距可变的光刻投影物镜，沿物平面至像平面的光轴方向顺次包括由第一透镜、第二透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜构成的第一组合透镜组、孔径光阑、由第六透镜、第七透镜和第八透镜构成的第二组合透镜组，其特征在于，所述的第一透镜、第二透镜、第七透镜、第八透镜具有正光焦度，第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜具有负光焦度，所述的第一透镜、第七透镜、第八透镜为双凸透镜，第三透镜为双凹透镜，第二透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜为凹面朝向像平面的弯月透镜，所述的第一透镜、第二透镜、第三透镜选用冕牌玻璃，第四透镜、第五透镜、第六透镜选用火石玻璃，第七透镜、第八透镜选用冕牌玻璃，所述的第一组合透镜组的后焦点、孔径光阑的中心和第二组合透镜组的前焦点三者重合构成双远心光路。