[发明专利]一种强激光辐照制备类金刚石薄膜的方法有效
申请号: | 201310377771.8 | 申请日: | 2013-08-27 |
公开(公告)号: | CN103409729A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 任旭东;杨慧敏;郑腊梅;刘帆帆;唐少雄 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/48 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 汪旭东 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种强激光辐照制备类金刚石薄膜的方法:采用高功率脉冲激光辐照沉浸在循环水溶液下基体的石墨涂层,石墨吸收激光能量迅速气化、电离,产生大量的高速等离子体,并在基体表面产生瞬间的高温高压微区,随后又以极快的冷却速度冷却,在这个极端非平衡条件下,金刚石形核并长大,一部分石墨转变为金刚石,与基体表层发生分子、原子级的扩散。本发明克服了反应条件特殊和装置操作困难且成本昂贵的问题,创新实现了类金刚石薄膜在宏观常温常压下的连续合成,获得了较厚的类金刚石薄膜且反应时间快,与基体结合强度大。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 辐照 制备 金刚石 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种强激光辐照制备类金刚石薄膜的方法,包含如下步骤:用砂纸打磨预涂基体(12)表面并抛光,之后用丙酮、酒精清洗,干燥处理;以石墨粉为原料,将石墨粉末置入盛有酒精的超声波容器中进行振动分散,然后将酒精蒸发;用浸渍提拉法预置石墨涂层;将涂有石墨涂层的基体(12)置入装有适量水的反应容器(10)中,通过夹具(17)将所述涂有石墨涂层的基体(12)夹紧固定在工作台(14)上;打开高功率脉冲激光装置(4),设置激光参数为:脉冲宽度为10ns~20ns, 脉冲频率为10HZ,功率密度为109W/cm2,光斑直径5~10mm,光斑搭接率为20~50%,激光聚焦于所述涂有石墨涂层的基体(12)表面;控制工作台的运动轨迹实现基体(12)与激光的相对移动,最终实现整个基体的表面的涂覆,在基体表面形成高质量的类金刚石薄膜(11),待反应完成后,关闭所有电源,取下基体, 清洗。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的