[发明专利]一种用以改进结构性能的有机薄膜晶体管制备方法有效
申请号: | 201310370777.2 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN103413891A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 唐伟;郭小军;冯林润;赵家庆;徐小丽;蒋琛 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L51/40 | 分类号: | H01L51/40 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 祖志翔 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用以改进结构性能的有机薄膜晶体管制备方法,其通过对栅绝缘层进行表面改性同时实现电极精细化和有机半导体层图形化,具体步骤为:1)在绝缘衬底之上制备栅电极;2)在绝缘衬底和栅电极之上制备栅极绝缘层;3)采用自组装单分子层修饰栅极绝缘层的上表面形成表面改性层;4)在表面改性层上打印精细化的源电极和漏电极;5)采用紫外光照射处于源电极与漏电极之间的沟道区域,除去该区域内的表面改性层;6)采用电极修饰材料修饰源电极和漏电极;7)在栅极绝缘层和电极修饰材料之上自组装形成图形化的有机半导体层。本发明与全溶液法加工工艺兼容,能有效降低成本,实现高效生产,提升有机薄膜晶体管的电学性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 用以 改进 结构 性能 有机 薄膜晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用以改进结构性能的有机薄膜晶体管制备方法,该有机薄膜晶体管为底栅底接触型结构,自下而上依次包括绝缘衬底、栅电极、栅极绝缘层、表面改性层、源电极、漏电极、电极修饰材料和有机半导体层,其特征在于:通过对栅绝缘层进行表面改性同时实现电极精细化和有机半导体层图形化。
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H01 基本电气元件
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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