[发明专利]高精度抛光体制备工艺及高精度抛光体

摘要

本发明公开一种高精度抛光体制备工艺，设置布基为载体，于该载体上密布设置抛光用的湿法涂层材料；设置硬体塑胶层为中间层基体，该硬体塑胶层由树脂组成；利用胶黏剂涂布在所述硬体塑胶层一侧表面，组成粘合层；将抛光面粘合或无缝贴合在所述硬体塑胶层的一侧表面；所述硬体塑胶层两面分别贴合抛光面及粘合层，组成抛光体。采用三层结构的抛光体设计，在保证硬度的同时减少抛光体厚度，做到高精度抛光处理；本发明还提供一种满足该方法的高精度抛光体，结构薄其硬质控制合理，使用过程中不易变形或拉伸，有效实现高精度抛光处理，有效节约成本，满足环保要求，并有效解决高精度抛光后工件塌边现象。

主权项

一种高精度抛光体制备工艺，其特征在于，该方法包括以下步骤：（1）制备抛光面：设置布基为载体，于该载体上密布设置抛光用的湿法涂层材料；（2）制备中间层：设置硬体塑胶层为中间层基体，该硬体塑胶层由树脂组成； （3）制备粘合层：利用胶黏剂涂布在所述硬体塑胶层一侧表面，组成粘合层；（4）将抛光面粘合或无缝贴合在所述硬体塑胶层的一侧表面；（5）完成所述步骤（1）‑（4），所述硬体塑胶层两面分别贴合抛光面及粘合层，组成抛光体。