[发明专利]用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备有效
| 申请号： | 201310315038.3 | 申请日： | 2008-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN103406300B | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 包立源;萨曼莎·S·H·潭;蒋安北 | 申请（专利权）人： | 量子全球技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,钟强 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 喷涂 刻蚀 清洁 沉积 零件 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于电子器件制造处理室的元件的喷涂清洁设备，包括：清洁箱子；位于所述清洁箱子的内表面上的多个外部喷涂喷嘴，所述外部喷涂喷嘴将清洁化学品喷涂在处理室元件的外部部分；安装装置，其适于将所述处理室元件保持在所述清洁箱子内；清洁化学品供应件，其连接到所述外部喷涂喷嘴；经由导管悬挂在所述清洁箱子内的多个内部喷涂喷嘴，所述内部喷涂喷嘴垂直地和/或旋转地移动以将清洁化学品喷涂在所述处理室元件的内部部分；以及清洁化学品源，其经由所述导管连接到所述多个内部喷涂喷嘴。
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