[发明专利]沉积掩模

摘要

本发明公开了一种沉积掩模，其特征在于：所述的有机材料沉积装置包含有一个真空室，其内设有有机材料沉积坩埚，该坩埚中安装有框架、沉积掩模，框架包括有开口；所述的沉积掩模上有基板，基板上可安装有磁阵列。所述的沉积掩模可包含有掩模主体和涂覆层，掩模主体多个狭缝，有机材料可穿过狭缝，涂覆层可被涂覆在掩模主体的表面上。本发明的有益效果是：具有较好的耐用性和较高的强度性，方便实用，清晰度高，且沉积面上有精细控制的尺寸的狭缝，提高了生产过程中的准确性。

主权项

一种沉积掩模，其特征在于：所述的有机材料沉积装置包含有一个真空室（30），其内设有有机材料沉积坩埚（20），该坩埚中安装有框架（10）、沉积掩模（100），框架（10）包括有开口（11）；所述的沉积掩模（100）上有基板（200），基板（200）上可安装有磁阵列（40）。