[发明专利]激光转印方法和该方法使用的激光转印装置无效
| 申请号： | 201310306105.5 | 申请日： | 2013-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN103568614A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 石原慎吾;松崎永二;松浦宏育;矢崎秋夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382;B41J2/435;H01L51/56;H01L51/40 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种激光转印方法和该方法使用的激光转印装置。本发明涉及一种有机EL面板，不使用蒸镀掩模形成有机EL面板的发光层的有机EL层。与在支承基板（20）上形成有有机EL膜（21）的金属施主基板（220）相对，配置具有有机EL元件形成部（110）的电路基板（101）。对金属施主基板（220）照射激光，使支承基板（20）内产生冲击波，在电路基板（101）侧形成有机EL层，实现高精细、大画面且制造成本低的有机EL面板。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 方法 使用 装置 | ||
【主权项】：
一种激光转印方法，将形成于金属施主片上的薄膜转印到与所述金属施主片相对的基板上，所述激光转印方法的特征在于：将多个脉冲激光串沿一定方向进行扫描对所述金属施主片背面进行照射，照射第二脉冲光进行扫描，使得第二脉冲光的至少一部分与照射了第一脉冲光的部分重叠。
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