[发明专利]光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品有效

专利信息
申请号: 201310257323.4 申请日: 2013-06-25
公开(公告)号: CN103508994A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: E·阿恰达;I·考尔;刘骢;C-B·徐;李明琦;G·P·普罗科普维茨 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: C07D317/24 分类号: C07D317/24;C07D493/04;C07D493/14;G03F7/09;G03F7/00;G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 朱黎明
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品。本发明涉及一种具有式I结构的化合物,式中,各R1独立地是H或任选地与相邻R1相连的取代或未取代的C1-30脂族基团;各R2和R3独立地是H、F、C1-10烷基、C1-10氟代烷基、C3-10环烷基或C3-10氟代环烷基,其中至少一个R2和/或R3包含F;L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1-20连接基团,其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构;各a独立地是0-12的整数;b是0-5的整数;各c、d和r独立地是0或1;p是0-10的整数;q是1-10的整数。光致抗蚀剂包括光致生酸剂,经涂覆的制品包括光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂可用于形成器件。
搜索关键词: 光致生酸剂 包含 述光致生酸剂 光致抗蚀剂 以及 述光致抗蚀剂 经涂覆 制品
【主权项】:
1.一种具有式I结构的化合物:式中:各R1独立地是H或任选地与相邻R1连接的饱和或不饱和C1-30脂族基团;各R2和R3独立地是H、F、C1-10烷基、C1-10氟代烷基、C3-10环烷基或C3-10氟代环烷基,其中至少一个R2和/或R3包含F;L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1-20连接基团,其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构,并且其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地被可聚合的C2-20α-β不饱和有机基团取代;X是含磺酰胺、醚、酯、碳酸盐/酯、胺、酰胺、脲、硫酸盐/酯、或磺酸盐/酯的基团;Z+是有机或无机阳离子;以及各a独立地是0-12的整数;b是0-5的整数;各c、d和r独立地是0或1;p是0-10的整数;q是1-10的整数。
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