[发明专利]一种热处理反应管构件有效
| 申请号： | 201310224627.0 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN103305923B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 孙少东 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种热处理反应管构件，所述热处理反应管构件包括热处理反应管和进排气装置，所述热处理反应管内具有反应管腔室，所述进排气装置包括进气装置和排气装置，所述进气装置与反应管腔室连通，所述进气装置包括一支以上进气扩散管、一支以上进气导流管，所述排气装置包括一支以上排气集散管、一支以上排气导流管，所述排气装置通过一个以上排气孔连通反应管腔室，所述排气孔上覆盖有排气均流板。本发明通过在热处理反应管的侧面设置进排气体装置，使得反应气体经过任一通道所走的距离都相同，进排气均匀分布，从而使得工艺硅片能够最大限度地同等地接触反应气体，形成较为均匀的膜厚。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热处理 反应 构件 | ||
【主权项】：
一种热处理反应管构件，其特征在于：所述热处理反应管构件包括热处理反应管和进排气装置，所述热处理反应管内具有反应管腔室，所述进排气装置包括进气装置和排气装置，所述进气装置与反应管腔室连通，所述进气装置包括一支以上进气扩散管(6)、一支以上与进气扩散管(6)相连通的进气导流管(8)，所述排气装置包括一支以上排气集散管(7)、一支以上与排气集散管(7)相连通的排气导流管(9)，所述排气装置通过一个以上排气孔连通反应管腔室，所述排气孔上覆盖有排气均流板(5)，所述进排气装置上设置有进气口(1)和排气口(2)，所述进气口(1)和排气口(2)分别连通邻近的进气扩散管(6)和排气集散管(7)，反应气体自进气口(1)沿进气装置的任一路径进入到反应管腔室的路程等长，所述进气装置和排气装置相向排列、结构对称；所述排气均流板(5)的纵向两侧与热处理反应管的管壁之间具有用于气流通过的空隙。
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