[发明专利]一种生成二维相位解缠质量图的方法及装置有效
申请号: | 201310080570.1 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN103325092A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 柳罡;邓云凯;王宇;李泓宇;陈润璞;邵云峰;袁志辉;李兴林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;孟桂超 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种生成二维相位解缠质量图的方法,包括:将缠绕相位数据变换为Ng个灰度等级数据;对变换后的灰度等级数据进行分块,将分块后的每个数据块生成对应的灰度共生矩阵(GLCM);采用新型的熵差计算模型计算生成的每个数据块对应的所述GLCM的熵差,得到二维相位解缠质量图。本发明同时公开了一种生成二维相位解缠质量图的装置,采用本发明的方法及装置,能生成稳定、有效的质量图,从而能正确地指导二维相位解缠,使得相位解缠结果更加可靠。 | ||
搜索关键词: | 一种 生成 二维 相位 质量 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种生成二维相位解缠质量图的方法,其特征在于,该方法包括:将缠绕相位数据变换为Ng个灰度等级数据;对变换后的灰度等级数据进行分块,将分块后的每个数据块生成对应的灰度共生矩阵(GLCM);采用新型的熵差计算模型计算生成的每个数据块对应的所述GLCM的熵差,得到二维相位解缠质量图;所述新型的熵差计算模型为:E = - Σ k = 0 N g - 1 P Y ( k ) × log [ P Y ( k ) ] ; ]]>P Y ( k ) = Σ i = 1 N g Σ j = 1 N g p ( i , j , d , θ ) , G ( | W ( i ~ - j ~ ) - W ( i ~ - j ~ ) ‾ | ) = k , k = 0,1 , . . . , N g - 1 ; ]]> 其中,E表示熵差,i、j表示两个像素的灰度级,d表示两个像素之间的距离,θ表示两个像素连线与横轴的夹角,W表示缠绕算子,
表示未经量化的i值,
表示未经量化的j值,G表示灰度级量化操作,p(i,j,d,θ)表示归一化GLCM元素。
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