[发明专利]原子层沉积系统

摘要

本发明涉及原子层沉积技术领域，具体涉及一种原子层沉积系统。所述原子层沉积系统，包括：一真空腔室；一衬底，设置在所述真空腔室内；一加热盘，设置在所述衬底的下方，用于加热所述真空腔室和所述衬底；一导电盘，所述导电盘与所述加热盘在所述真空腔室内部形成电场，使进入所述真空腔室的前驱体分子带电。本发明在原子层沉积系统中引入了电场，使通入真空腔室的前驱体分子带电，并在所形成的电场作用下向衬底作定向运动，大大增加了前驱体的动能，使更多的前驱体能与衬底材料之间发生化学吸附和反应，提高原子层沉积系统的效能。

主权项

原子层沉积系统，其特征在于，包括：一真空腔室；一衬底，设置在所述真空腔室内；一加热盘，设置在所述衬底的下方，用于加热所述真空腔室和所述衬底；一导电盘，所述导电盘与所述加热盘在所述真空腔室内部形成电场，使进入所述真空腔室的前驱体分子带电。