[发明专利]氢氧化钴的制法、氧化钴的制法及钴酸锂的制法无效

专利信息
申请号: 201310054889.7 申请日: 2013-02-20
公开(公告)号: CN103253715A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 大石义英 申请(专利权)人: 日本化学工业株式会社
主分类号: C01G51/04 分类号: C01G51/04;H01M4/525
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供氢氧化钴的制法、氧化钴的制法及钴酸锂的制法。本发明的目的在于得到平均粒径为5μm以上、二次颗粒的粒度分布窄、实质上不含粒径1μm以下的微粒成分的氢氧化钴和氧化钴。一种氢氧化钴的制造方法,其特征在于,该方法具有下述中和工序:将钴水溶液(A液)和碱水溶液(B液)添加到水溶剂(C液)中,在55~85℃下进行中和反应,从而得到氢氧化钴,其中,钴水溶液(A液)是含有甘氨酸的钴水溶液,相对于1摩尔原子换算的钴,甘氨酸的含量为0.010~0.300摩尔。
搜索关键词: 氢氧化 制法 氧化钴 钴酸锂
【主权项】:
一种氢氧化钴的制造方法,其特征在于,该方法具有下述中和工序:将钴水溶液(A液)和碱水溶液(B液)添加到水溶剂(C液)中进行中和反应,从而得到氢氧化钴,其中,钴水溶液(A液)是含有甘氨酸的钴水溶液,相对于1摩尔按原子换算的钴,甘氨酸的含量为0.010~0.300摩尔。
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