[发明专利]样本制备方法和装置有效
| 申请号： | 201310054653.3 | 申请日： | 2013-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN103257067A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 铃木秀和 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种样本制备方法和装置。样本制备方法包括：在显示屏幕上显示样本的第一截面的SEM图像的同时，通过扫描并照射聚焦离子束对第一截面进行蚀刻处理，从而暴露第二截面；以及在显示屏幕上显示另一截面的SEM图像的同时，在执行聚焦离子束的扫描和照射的同时改变聚焦离子束的扫描方向并对第二截面进行蚀刻处理，从而暴露样本的期望的截面。 | ||
| 搜索关键词： | 样本 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种样本制备方法，所述样本制备方法包括：在显示屏幕上显示进行扫描电子显微镜观察的样本的作为第一截面的截面的观察图像的同时，通过聚焦离子束的扫描和照射对所述第一截面进行蚀刻处理，从而暴露所述样本的第二截面；以及在显示屏幕上显示进行扫描电子显微镜观察的所述第二截面的观察图像的同时，在执行所述聚焦离子束的扫描和照射的同时改变所述聚焦离子束的扫描方向并且利用改变了扫描方向后的所述聚焦离子束的扫描和照射来对所述第二截面进行蚀刻处理，从而暴露所述样本的期望的截面。
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