[发明专利]形成板的装置有效

专利信息
申请号: 201310010356.9 申请日: 2009-06-05
公开(公告)号: CN103046116A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 彼德·L·凯勒曼;法兰克·辛克莱;菲德梨克·卡尔森;尼可拉斯·P·T·贝特曼;罗伯特·J·米歇尔 申请(专利权)人: 瓦里安半导体设备公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06;C30B29/60
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 美国麻萨诸塞*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种形成板的装置。可自熔体形成无错位板。使用冷却平板在材料的熔体上形成具有第一宽度的所述材料的板。此板具有错位。相对于所述冷却平板而输送所述板,且所述错位迁移至所述板的边缘。所述板的所述第一宽度藉由所述冷却平板而增加至第二宽度。所述板在所述第二宽度处不具有错位。在一种情况下,所述冷却平板可具有具两个不同宽度的形状。在另一情况下,所述冷却平板可具有在不同温度下操作的区段,以增加所述板的宽度。所述板可相对于所述冷却平板而被拉动或流动。
搜索关键词: 形成 装置
【主权项】:
一种形成板的装置,包括:容器,界定经组态以容纳材料的熔体的通道;以及冷却平板,位于所述熔体上方,所述冷却平板具有一第一区段及多个第二区段,与所述第一区段相比,所述多个第二区段经组态以独立地控制温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦里安半导体设备公司,未经瓦里安半导体设备公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310010356.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top