[发明专利]减少由于在平面微流体分离装置中的过孔而引起的分散有效
申请号: | 201280028146.6 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN103582812A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | B.班纳 | 申请(专利权)人: | 沃特世科技公司 |
主分类号: | G01N30/38 | 分类号: | G01N30/38 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 崔幼平;严志军 |
地址: | 美国麻*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种平面微流体化学品分离装置,包括位于该装置的平面中的分离通道。该装置还包括定位成垂直于该分离通道的一个或多个过孔。所述过孔在分离通道和基板的外表面之间延伸以便与所述分离通道流体连通。所述过孔具有大致小于分离通道的第一区域的截面积的截面积以抑制由样品带通过所述一个或多个过孔而引起的带变宽。 | ||
搜索关键词: | 减少 由于 平面 流体 分离 装置 中的 引起 分散 | ||
【主权项】:
一种平面微流体化学品分离装置,所述装置限定:位于所述装置的平面内的分离通道;以及过孔,所述过孔定位成垂直于所述分离通道并且在所述分离通道和所述基板的外表面之间延伸以便与所述分离通道流体连通,其中,所述过孔具有大致小于所述分离通道的第一区域的截面积的截面积以抑制由样品带通过所述过孔而引起的带变宽。
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