[实用新型]磁控溅射环装置及磁控溅射反应器有效
| 申请号： | 201220750585.5 | 申请日： | 2012-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN203049025U | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种磁控溅射环装置及磁控溅射反应器。其中磁控溅射环装置包括：磁控溅射环，包括内环侧壁和外环侧壁；定位销，设置在所述磁控溅射环的外环侧壁上，磁控溅射环通过定位销固定在磁控溅射腔室的侧壁上，所述定位销的表面具有膜层，所述膜层上具有喷砂图案。应用本实用新型的磁控溅射环装置可以减少附着在磁控溅射环装置表面的溅射材料原子掉落至基板上，从而影响基片成膜质量。另外，提高磁控溅射环的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 反应器 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射环装置，其特征在于，包括：磁控溅射环，包括内环侧壁和外环侧壁；定位销，设置在所述磁控溅射环的外环侧壁上，磁控溅射环通过定位销固定在磁控溅射腔室的侧壁上，所述定位销的表面具有膜层，所述膜层具有喷砂图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料有限公司，未经宁波江丰电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220750585.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：空气干燥增氧净化机
- 下一篇：一种拉紧绝缘子自动修弧机
- 同类专利
- 专利分类
