[实用新型]一种连续加料硅单晶炉有效
申请号: | 201220637399.0 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN202936509U | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 惠梦君 | 申请(专利权)人: | 无锡市蓝德光电科技有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B15/10;C30B15/28;C30B15/02;C30B29/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 杨小双 |
地址: | 214174 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种连续加料硅单晶炉,包括提拉装置、加料装置、石英坩埚、石墨坩埚、石墨加热器,所述石英坩埚分为内坩埚和外坩埚,内、外坩埚底部相连并有一个相通的孔洞,所述内、外坩埚之间留有加料空隙;所述提拉装置上设置有称重传感器和监测晶棒生长的摄像头;所述加料装置通过加料斗进行加料,所述加料口置于内、外坩埚之间。本实用新型通过将石英坩埚设置成内外两层,加料装置在内外坩埚之间进行加料,能够有效的防止原料加入时对晶棒生长的影响,保证了生产晶体的整体浓度,降低了特定浓度晶棒的生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 加料 硅单晶炉 | ||
【主权项】:
一种连续加料硅单晶炉,包括提拉装置、加料装置、石英坩埚、石墨坩埚、石墨加热器,其特征在于:所述石英坩埚分为内坩埚和外坩埚,内、外坩埚底部相连并有一个相通的孔洞,所述内、外坩埚之间留有加料空隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡市蓝德光电科技有限公司,未经无锡市蓝德光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220637399.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:骑行警示羽绒服
- 下一篇:基于吡咯烷酮阳离子的聚合物阴离子交换膜及其制备方法