[实用新型]研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置有效

专利信息
申请号: 201220521040.7 申请日: 2012-10-11
公开(公告)号: CN202825548U 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 唐强 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B24B37/00;H01L21/321
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置,所述研磨垫调整器清洗装置包括一清洗杯和至少一个喷嘴,所述研磨垫调整器位于所述清洗杯上方,所述喷嘴固定于所述清洗杯的周壁,用于向所述清洗杯上方的研磨垫调整器喷洒清洗液。采用该化学机械研磨装置,能够有效延长研磨盘承载盘寿命并降低产品不良率。
搜索关键词: 研磨 调整器 清洗 装置 化学 机械
【主权项】:
一种研磨垫调整器清洗装置,其特征在于,包括一清洗杯和至少一个喷嘴,所述研磨垫调整器位于所述清洗杯上方,所述喷嘴固定于所述清洗杯的周壁,用于向所述清洗杯上方的研磨垫调整器喷洒清洗液。
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