[实用新型]双工件台测量初始化系统有效
| 申请号： | 201220459452.2 | 申请日： | 2012-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN202771156U | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 吴飞;郭琳;袁志扬;吴萍;谢灵军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了两种双工件台测量初始化系统，这两种双工件台测量初始化系统在现有技术的基础上增加了零位传感器的数量，并分别设置于工作台上的两个工位侧，使得两个工件台无须经常回到同一个位置来进行初始化工作，从而使两个工件台只需移动很少的路程便可完成整个硅片的上片下片、初始化、测量及曝光步骤，提高了光刻机的工作效率，延长工件台的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 双工 测量 初始化 系统 | ||
【主权项】：
一种双工件台测量初始化系统，其特征在于，包括两套激光干涉仪组件和四套测量组件，所述两套激光干涉仪组件分别设置于两个工件台的周侧，并分别对准对应的工件台，所述四套测量组件中两套设置于工作台上的测量位侧，另两套设置于所述工作台上的曝光位侧。
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