[实用新型]研磨垫及研磨装置有效
| 申请号： | 201220413058.5 | 申请日： | 2012-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN202702002U | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 唐强;洪中山 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨垫，所述研磨垫包括内部区域和外部区域，所述外部区域位于所述内部区域的外侧，所述内部区域内设有若干同心的圆形沟槽，所述若干同心的圆形沟槽以研磨垫的中心为圆心，所述外部区域间隔设置若干由内向外发散的导流槽，位于中心区域的圆形沟槽能够起到保留研磨液的作用，以提高研磨液利用率；而位于外部区域的导流槽，可以使得研磨液快速移动，从而保证研磨液的新鲜度和研磨效率；同时，可以使得堆积于研磨垫的外围区域的研磨液副产物能够快速排离研磨垫，不但可以确保研磨液均匀分布，而且可以避免研磨液副产物引发晶圆表面出现划伤、腐蚀、凹坑等缺陷，提高产品良率。本实用新型还公开了采用上述研磨垫的研磨装置。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其特征在于，所述研磨垫包括内部区域和外部区域，所述外部区域位于所述内部区域的外侧，所述内部区域内设有若干同心的圆形沟槽，所述若干同心的圆形沟槽以研磨垫的中心为圆心，所述外部区域间隔设置若干由内向外发散的导流槽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220413058.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种男士避孕贴
- 下一篇：一种医用可调节角度的踝关节固定装置
