[实用新型]一种干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201220397628.6 | 申请日： | 2012-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN202796846U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 蒋会刚;刘华锋;刘佳;任志强;谢海征 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/244 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 张振伟;王黎延 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种干法刻蚀设备，Chamber中设置有颜色传感器，颜色传感器位于能与Chamber隔绝的空间中，空间通过活动挡板与Chamber保持封闭或联通；活动挡板连接于外部控制部件，控制部件控制所述活动挡板移动，使空间与所述Chamber保持封闭或联通。在有源层刻蚀(Active Etch)和过孔蚀刻(Via Etch)两个步骤中，通过所述活动挡板移动使颜色传感器暴露于Chamber中，即可对Chamber是否真空泄露进行检测，由此保证产品良率。另外，通过设置下部电极表面浮点(Embossing Dot)的分布方式，使与显示面板的像素区对应区域不设置所述表面浮点(Embossing Dot)，这样表面浮点(Embossing Dot)不会对像素区域产生干扰，保证了显示面板的显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种干法刻蚀设备，包括反应腔，其特征在于，所述反映腔中设置有颜色传感器，所述颜色传感器位于能与所述反应腔隔绝的空间中，所述空间通过活动挡板与所述反应腔封闭或连通；所述活动挡板连接于外部控制部件，所述控制部件控制所述活动挡板移动，使所述空间与所述反应腔保持封闭或连通。
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