[实用新型]一种晶体加工平磨料台有效
申请号: | 201220134801.3 | 申请日: | 2012-04-01 |
公开(公告)号: | CN202528055U | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 贾海涛;吴星;倪代秦;李旭明;李闯;高鹏成;张世杰 | 申请(专利权)人: | 北京华进创威电子有限公司 |
主分类号: | B24B41/06 | 分类号: | B24B41/06;B24B7/22 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 夏晏平 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种晶体加工平磨料台,属于晶体加工技术领域,特别是涉及晶体平面磨装置。在所述平磨料台上设有多个圆柱形的、与晶体大小基本匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁和/或底部上设有缓冲层,侧壁上设顶紧装置。在平磨晶体开始时,首先将此平磨料台平放到固定面上,晶体放置在料台上的凹槽内,再调节缓冲层和顶紧装置至晶体牢固,即可进行平磨加工。通过此料台的加工,可以得到平整、完整的单晶。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 加工 磨料 | ||
【主权项】:
一种晶体加工平磨料台,其特征在于:在所述平磨料台上设有多个圆柱形的、与晶体大小基本匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁和/或底部上设有缓冲层,侧壁上设顶紧装置。
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