[实用新型]离子溅射仪溅射靶有效

专利信息
申请号: 201220093483.0 申请日: 2012-03-14
公开(公告)号: CN202499900U 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 袁玫;黄耀生 申请(专利权)人: 南京南大仪器厂
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210038 江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开的离子溅射仪溅射靶,包括上盖板,所述上盖板上侧设有接线柱,其中,所述上盖板下侧设置靶头,所述靶头为圆形,所述靶头直径为50mm~60mm,所述靶头外表面设有溅射层,所述溅射层涂有溅射材料;所述靶头外侧设有压盖;所述上盖板和靶头通过螺栓固定连接。本实用新型提供的离子溅射仪溅射靶,安装简单,使用方便,减少了靶头的面积,仅需靶头正面涂覆溅射材料,节约了材料,降低了后期使用成本。
搜索关键词: 离子 溅射
【主权项】:
一种离子溅射仪溅射靶,包括上盖板(4),所述上盖板(4)上侧设有接线柱(5),其特征在于:所述上盖板(4)下侧设置靶头(1),所述靶头(1)为圆形,所述靶头(1)直径为50mm~60mm,所述靶头(1)外表面设有溅射层(2),所述溅射层(2)涂有溅射材料。
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